Mapper Lithography
Mapper Lithography — нидерландская компания, разрабатывающая установки безмасочной[англ.] многолучевой электронной литографии для полупроводниковой индустрии.
| Mapper Lithography | |
|---|---|
| Тип | корпорация |
| Основание | 2000 |
| Упразднена | 2018 |
| Причина упразднения | Банкротство |
| Преемник | ООО Маппер |
| Основатели | Pieter Kruit, Bert Jan Kampherbeek, Marco Wieland |
| Расположение | Делфт, Нидерланды |
| Ключевые фигуры | Bert Jan Kampherbeek (CEO), Marco Wieland (CTO), Guido de Boer (COO) |
| Отрасль | Оборудование для производства микроэлектроники |
| Продукция | Безмасочная электроннолучевая литография |
| Число сотрудников | 200 (2012) |
| Сайт | mapperlithography.com Преемник: mapperllc.ru |
Mapper расположена в Делфт, вблизи Делфтского технического университета (TU Delft), являющегося одним из акционеров компании.
Технология
правитьТрадиционная фотолитография для производства полупроводниковых пластин использует набор масок, изображение с которых проецируется специальными установками — степперами на покрытую фоторезистом полупроводниковую пластину. Установки электроннолучевой литографии способны создавать аналогичные структуры на пластинах без использования масок[1]. В них используются тысячи параллельных электронных пучков (модель Matrix 1.1 — около 1,3 тысяч, Matrix 10.10 — 13,3 тысячи). Один пучок от мощного источника (5 кэВ) расщепляется на множество пучков, которые затем управляются с помощью электростатических линз, выполненных по технологии MEMS[2].
Способ управления лучом напоминает работу электронно-лучевых трубок в ЭЛТ-дисплеях или осциллографах.
С 2009 года Mapper Lithography совместно с институтом CEA-Leti (англ.) (Гренобль) продвигают многолучевую безмасочную электронную литографию в рамках совместного проекта IMAGINE[3].
Экспериментальная установка Mapper Lithography (Pre-alpha, 110 лучей по 5 кэВ, 2х2 мкм2 на луч[4]) тестировалась в TSMC в 2008 году[2]. Разрешение составляло около 45 нм, с возможным обновлением до 32 нм в следующих литографах[2]. После повышения количества пучков до 13 тысяч возможно достижение производительности в 10 пластин диаметром 300 мм в час[2].
Для получения адекватных при массовом производстве скоростей литографии предлагается создание кластерного литографа с общей производительностью в 100 пластин в час. В составе кластера будет устанавливаться десять модулей[2][5].
Среди технологических проблем: требуется чрезвычайно интенсивный источник электронов (около 107 A/m2Sr2V), передача маски на управляющую MEMS матрицу должна происходить с высочайшими скоростями (общая — до 10 ТБайт/с, каждый канал около 7,5 Гбит/с)[2]
Инвестиции от Роснано
править23 августа 2012 года Роснано объявило об инвестировании 40 миллионов евро в Mapper Lithograpy[6][7]. Используя еще 40 миллионов евро, привлеченные тогда же из других источников, компания Mapper сможет построить новый завод по сборке литографов в Делфте. Его производительность составит до 20 установок в год.
Также планировалось открыть в России (в Санкт-Петербурге[8]) производство одной из ключевых частей литографов — электронно-оптической системы на базе технологии MEMS.
В июле 2014 года в Москве на территории технополиса «Москва» был открыт завод по производству одного из наиболее наукоемких и центральных компонентов безмасочных литографов — элементов электронной оптики на основе МЭМС (микроэлектромеханических систем)[9]. В 2014 году начато производство спейсеров, в октябре 2014 были выпущены первые кремниевые электронные линзы, в 2015 году расширен ассортимент выпускаемых кремниевых линз и начата отладка технологического процесса по производству элементов с управляющими электродами.
Компания признана банкротом 28 декабря 2018. Разработки, интеллектуальные права выкуплены ASML.
После банкротства
правитьРоссийское подразделение Маппера не разорилось, после банкротства основной компании, «ООО Маппер» полностью выкупило Роснано[10].
См. также
править- ASML — крупнейший производитель классических литографов
- Другие потенциальные поставщики установок многолучевой электронной литографии:[11]
- IMS Nanofabrication AG (Vienna, Austria)
- KLA-Tencor Corp. (Milpitas, California) — технология Reflective Electron Beam Lithography (REBL)
Примечания
править- ↑ Peter Clarke (2012-28-08). "Russia backs e-beam lithography firm" (англ.). EETimes. Архивировано 10 января 2014. Дата обращения: 10 января 2014.
{{cite news}}: Проверьте значение даты:|date=(справка) - ↑ 1 2 3 4 5 6 Readiness of Multiple E-Beam Maskless Lithography (MEB ML2) Архивная копия от 10 января 2014 на Wayback Machine //23 Oct 2009, 6th International Symposium on Immersion Lithography Extensions
- ↑ Synopsys Joins CEA-Leti’s IMAGINE Program on Maskless Lithography Архивная копия от 10 января 2014 на Wayback Machine // CEA-Leti, 19/09/2011: «IMAGINE. CEA-Leti and MAPPER Lithography launched the program in July 2009 with the delivery of MAPPER’s Massively Parallel Electron Beam Platform to Leti.»
- ↑ Архивированная копия. Дата обращения: 10 января 2014. Архивировано из оригинала 10 января 2014 года.
- ↑ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ КОМПЛЕКСЫ НАНОЭЛЕКТРОНИКИ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ СИСТЕМ БЕСШАБЛОННОЙ ЛИТОГРАФИИ Архивная копия от 10 января 2014 на Wayback Machine // журнал «Интеграл» № 3 (71) 2013, стр 80
- ↑ РОСНАНО инвестирует в безмасочную литографию с разрешением до 10 нм Архивная копия от 11 декабря 2013 на Wayback Machine // Пресс-релиз Роснано, 23 августа 2012
- ↑ Роман Дорохов (2012-08-23). "«Роснано» инвестирует 40 млн евро в нидерландскую компанию Mapper Lithography, разрабатывающую новую технологию производства микросхем. Часть производства будет размещена в России". Vedomosti.ru. Архивировано 10 января 2014. Дата обращения: 10 января 2014.
- ↑ Sergey Kalyuzhnyi (18-20 Jun 2013). "Cross-region investment EU-RUSSIA: RUSNANO experience" (PDF) (англ.). Rosnano, euronano forum 2013 (Dublin). Архивировано (PDF) 10 января 2014. Дата обращения: 10 января 2014.
St. Petersburg 1. «Mapper» 2013
- ↑ "Портфельная компания РОСНАНО Mapper Lithography приступила к производству ключевых элементов литографического оборудования нового поколения". Роснано. 2014-07-03. Архивировано 8 августа 2014. Дата обращения: 2 августа 2014.
- ↑ https://bo.nalog.ru/download/clarification/6967627 (недоступная ссылка)
- ↑ Peter Clarke (2012-17-02). "TSMC set to receive Matrix 13,000 e-beam litho machine" (англ.). EETimes. Архивировано 10 января 2014. Дата обращения: 10 января 2014.
{{cite news}}: Проверьте значение даты:|date=(справка)
Ссылки
править- mapperlithography.com
- Mapper Lithography Holding B.V. // ПОРТФЕЛЬНЫЕ КОМПАНИИ РОСНАНО
- TU Delft — Charged Particle Optics Архивная копия от 10 января 2014 на Wayback Machine
- ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ КОМПЛЕКСЫ НАНОЭЛЕКТРОНИКИ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ СИСТЕМ БЕСШАБЛОННОЙ ЛИТОГРАФИИ // журнал «Интеграл» № 3 (71) 2013, стр 80