Исходный файл (SVG-файл, номинально 401 × 235 пкс, размер файла: 8 КБ)

Описание Comparison of high-k dielectric structure with conventional silicon dioxide gate dielectric. Schematic is my graphical representation of an idea in the presentation by G. E. Moore, Intel Inc.
Дата 2006-01-05, 2008-01-14
Источник File:High-k.png
Автор en:User:Anoopm, traced by User:Stannered
Права
(Повторное использование этого файла)
Anoopm из английской Википедии, владелец авторских прав на это произведение, добровольно публикует его на условиях следующей лицензии:
w:ru:Creative Commons
атрибуция распространение на тех же условиях
Этот файл доступен по лицензии Creative Commons Attribution-Share Alike 3.0 Unported. Также налагаются дополнительные ограничения.
Атрибуция: Anoopm из английской Википедии
Вы можете свободно:
  • делиться произведением – копировать, распространять и передавать данное произведение
  • создавать производные – переделывать данное произведение
При соблюдении следующих условий:
  • атрибуция – Вы должны указать авторство, предоставить ссылку на лицензию и указать, внёс ли автор какие-либо изменения. Это можно сделать любым разумным способом, но не создавая впечатление, что лицензиат поддерживает вас или использование вами данного произведения.
  • распространение на тех же условиях – Если вы изменяете, преобразуете или создаёте иное произведение на основе данного, то обязаны использовать лицензию исходного произведения или лицензию, совместимую с исходной.
Этот признак лицензирования был добавлен к этому файлу как часть обновления лицензии GFDL.
GNU head Разрешается копировать, распространять и/или изменять этот документ в соответствии с условиями GNU Free Documentation License версии 1.2 или более поздней, опубликованной Фондом свободного программного обеспечения, без неизменяемых разделов, без текстов, помещаемых на первой и последней обложке. Копия лицензии включена в раздел, озаглавленный GNU Free Documentation License. Также налагаются дополнительные ограничения.
Другие версии

Производные работы от этого файла:  Common SiO2 vs high-k gate stack (DE).svg

File:High-k.png

Краткие подписи

Добавьте однострочное описание того, что собой представляет этот файл

Элементы, изображённые на этом файле

изображённый объект

История файла

Нажмите на дату/время, чтобы посмотреть файл, который был загружен в тот момент.

Дата/времяМиниатюраРазмерыУчастникПримечание
текущий18:14, 14 января 2008Миниатюра для версии от 18:14, 14 января 2008401 × 235 (8 КБ)Stannered{{Information |Description=Comparison of high-k dielectric structure with conventional silicon dioxide gate dielectric. Schematic is my graphical representation of an idea in the presentation by G. E. Moore, Intel Inc. |Source=en:Image:High-k.png |Da

Следующая страница использует этот файл:

Глобальное использование файла

Данный файл используется в следующих вики: