Файл:High-k.svg
Размер этого PNG-превью для исходного SVG-файла: 401 × 235 пкс. Другие разрешения: 320 × 188 пкс | 640 × 375 пкс | 1024 × 600 пкс | 1280 × 750 пкс | 2560 × 1500 пкс.
Исходный файл (SVG-файл, номинально 401 × 235 пкс, размер файла: 8 КБ)
История файла
Нажмите на дату/время, чтобы посмотреть файл, который был загружен в тот момент.
Дата/время | Миниатюра | Размеры | Участник | Примечание | |
---|---|---|---|---|---|
текущий | 18:14, 14 января 2008 | 401 × 235 (8 КБ) | Stannered | {{Information |Description=Comparison of high-k dielectric structure with conventional silicon dioxide gate dielectric. Schematic is my graphical representation of an idea in the presentation by G. E. Moore, Intel Inc. |Source=en:Image:High-k.png |Da |
Использование файла
Следующая страница использует этот файл:
Глобальное использование файла
Данный файл используется в следующих вики:
- Использование в en.wiki.x.io
- Использование в en.wikiversity.org
- Использование в fa.wiki.x.io
- Использование в ja.wiki.x.io
- Использование в uk.wiki.x.io